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多級高速分散機

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基本參數
服務項目 瀏覽量32 發布時間2019-02-20
品牌SGN/思峻 所在地上海 嘉定 起訂≥1 臺
供貨總量未填 發貨0天內發貨 有效期至2025-03-09已下架
展開
詳細說明

產品名稱:石墨烯插層復合法多級高速分散機,插層復合法高速分散機,硅酸鹽類插層復合法高速研磨分散機,滑石插層復合法高速研磨分散機,云母插層復合法高速研磨分散機,黏土插層復合法高速研磨分散機

GMD2000系列石墨烯橡膠分散機選型表

SGN超高速分散機選型表:

 

標準流量(H2O)

輸出轉速

標準線速度

馬達功率

進出口尺寸

型號

l/h

rpm

m/s

kW

 

GMD 2000/4

400

18000

51

4

DN25/DN15

GMD 2000/5

1500

13500

51

7.5

DN40 /DN 32

GMD 2000/10

4000

9257

51

22

DN50 / DN50

GMD 2000/20

10000

3664

51

37

DN80 /DN 65

GMD 2000/30

60000

1825

51

55

DN150 /DN 125

 (1—7—7—1—7—0—1—4—6—6—9)

(高嶺土、蒙脫土、泥灰石)、磷酸鹽類、石墨插層復合法高速研磨分散機、是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒(或稱為轉子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉,被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產生)加壓產生鄉下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的。

插層復合法插層聚合法是先將聚合物單體分散、插層進入層狀硅酸鹽片層中,然后原位聚合,利用聚合式放出大量的熱克服硅鹽片層間的作用力,使其剝離,從而使硅酸鹽片層與塑料基體以納米尺度復合。

 

聚合物插層法是將聚合物熔體或溶液與層狀硅酸鹽混合,利用化學和熱力學作用使層狀硅酸鹽剝離成納米尺度的片層并均勻地分散于聚合物基體中。該法的優點是易于實現無機納米材料以納米尺寸均勻地分散到塑料基體樹脂中。

 

目前制備聚合物/片狀、層狀、針狀無機物納米復合材料的主要方法。其原理是,片層結構的無機物,如硅酸鹽類、滑石、云母、黏土(高嶺土、蒙脫土、泥灰石)、磷酸鹽類、石墨、金屬氧化物等,其片層之間的結合力比較弱,并具有一定的活性,在一定的條件下,加入有機、無機或金屬有機物分子產生化學反應(即插層預處理),使其片層間距離擴大,然后將聚合物或其單體,在一定條件下插入經插層預處理后的層狀無機物的片層之間,進而破壞其片層結構,將片層剝離成厚為1nm長寬約為100nm左右的層狀單元微粒,并均勻地分散在聚合物基體中,以形成聚合物/無機物納米復合材料。

 

(1—7—7—1—7—0—1—4—6—6—9) 

研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品。一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是指定轉子齒的排列,還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。

 

GMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨.定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級踞齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。

 

 

石墨烯插層復合法多級高速分散機,插層復合法高速分散機,硅酸鹽類插層復合法高速研磨分散機,滑石插層復合法高速研磨分散機

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