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磁控+多弧離子鍍膜機器

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基本參數
服務項目 瀏覽量0 發布時間2014-03-08
品牌艾特邁 所在地廣東 佛山 起訂≥1 臺
供貨總量未填 發貨0天內發貨 有效期至2025-03-09已下架
展開
詳細說明

該機型在多弧離子鍍膜機的基礎上配置圓柱靶或平面磁控靶,設備具備離子鍍的高離化率、高沉積速度的特點,同時也具備磁控濺射低溫、穩定的優點,適合鍍各種復合膜層,,可以做到多復合膜層一次性完成,膜層具有很高的結合力、硬度、耐磨系數,特別適合鐘表、五金刀具、工藝品廠家的IPGIPS、刀具攙雜、復合膜層的制備。

技術參數:

真空箱體:主要規格有800*1000mm1000*1200mm,并可以根據客戶具體要求設計非標產品

夾具方式:采用公自轉行星式齒輪結構,工件速度在1-15/分鐘可調

控制氣體方式:采用質量流量計控制,進氣穩定,反映速度快

:采用整體制造技術,嚴格縝密的磁場設計和磁場布局,濺射刻蝕均勻。

電源:配置有高頻直流電源(20KW40KW等規格)、直流脈沖電源(電壓、占空比可調節),逆變電弧電源,并可根據實際的情況加裝離子源等輔助設施。

抽真空參數:從大氣抽至5*10 ̄3Pa≤15min 極限真空度8*10 ̄4Pa 控制系統

抽氣系統: 主要配備KT-600蘭州擴散泵。 配備ZJ600羅茨泵以及2X-70旋片泵各一臺。 其他非標產品根據其真空室大小確定所配備的真空抽氣機組。 也可以根據客戶的需要配備分子泵等

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